Описание серии TG-ML

Серия TG-ML

Насосы серии TG-ML характеризуются исключительно низким уровнем вибрации и были разработаны под требования таких современных передовых технологий как EUV-литография, микрообработка (технология MEMS), контроль качества компакт-дисков, сканирующая/просвечивающая электронная микроскопия, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия и для аналитических приборов, используемых в области развивающихся нанотехнологий. Турбомолекулярные насосы серии TG-ML компании Osaka с полностью магнитным подвесом ротора характеризуются сниженным на несколько порядков по величине уровня вибрации и являются оптимальным решением. Конструкция насосов в этой серии открывает путь к созданию насосов следующего поколения.

Применение	Особенности
- Оборудование для производства полупроводников следующего поколения - Электронная микроскопия сверхвысокого разрешения, аналитические приборы, НИОКР - Электроннолучевая литография, EUV-литография, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, сканирующая/просвечивающая электронная микроскопия	- Амплитуда виброперемещений в радиальном и осевом направлении менее 1 нм - Усовершенствованный алгоритм компенсации вибрации исключает нежелательные амплитуды виброперемещений, возникающие в результате быстрого вращения ротора с постоянным ускорением - Установка внешних демпферов для насоса серии TG-ML обеспечивает исключительно малую амплитуду виброперемещений менее 0,1 нм

Серия TG-MU

Насосы серии TG-MU сконструированы для эффективной откачки легких газов в диапазоне высокого и серхвысокого вакуума за счёт умньшения интенсиности газовыделения и повышения степени сжатия водорода: 60000. Сложность откачки легких газов, в частности водорода, является основной причиной невозможности получения сверхвысокого вакуума с помощью обычных турбомолекулярных насосов, т.к. основной объем газовыделений в этой области давлений приходится именно на водород, а степень сжатия водорода у турбомолекулярных насосов минимальная. Насос серии TG-MU обладают также всеми преимуществами насосов серии TG-M. После обезгаживания прогревом в течение короткого времени можно достичь предельного остаточного давления порядка 10-9 Па (10-11 торр)

Применение

- Аналитические приборы, системы анализа поверхности, сверхвысоковакуумные системы, НИОКР - Установки для нанесения тонких плёнок в условиях сверхвысокого вакуума (полупроводники), технология MEMS, НИОКР - Исследования в области физики высоких энергий, ускорители элементарных частиц, ядерная физика